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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GRS2000鋰電新工藝漿料混合分散機(jī)

    鋰電新工藝漿料混合分散機(jī)該設(shè)備適配鋰電新工藝需求,集成預(yù)分散與主混合功能,以強(qiáng)剪切力破除活性物質(zhì)、導(dǎo)電劑團(tuán)聚,配合公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)無si角攪拌。可精準(zhǔn)控溫與粒徑,提升漿料均勻性及高固含量適配性,減少批次差異,支持自動化集成,助力高一致性鋰電材料規(guī)?;a(chǎn)。

    更新時(shí)間

    2025-10-14

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  • GRS2000二氧化硅納米微球乳液管線式剪切分散機(jī)

    二氧化硅納米微球乳液管線式剪切分散機(jī)該設(shè)備專為二氧化硅納米微球乳液制備設(shè)計(jì),采用管線式連續(xù)處理,以高剪切力高效分散微球,避免團(tuán)聚并精準(zhǔn)控制粒徑分布。可提升乳液穩(wěn)定性與均一性,適配涂料、生物醫(yī)藥載體等領(lǐng)域,助力微球乳液規(guī)模化、高質(zhì)量生產(chǎn)。

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    2025-10-14

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  • GMD2000鏡面金漿管線式高剪切研磨分散機(jī)

    鏡面金漿管線式高剪切研磨分散機(jī) 該設(shè)備為鏡面金漿制備核心,采用管線式連續(xù)處理,以高剪切力破除金粉團(tuán)聚體,同時(shí)精準(zhǔn)研磨細(xì)化顆粒??蓪?shí)現(xiàn)金粉均勻分散,提升金漿鏡面效果、光澤度與穩(wěn)定性,適配gao端印刷、裝飾等領(lǐng)域,滿足規(guī)?;⑦B續(xù)化生產(chǎn)需求。

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    2025-10-14

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  • GRS2000納米二氧化硅包覆改性薄片鋁粉顏料分散機(jī)

    納米二氧化硅包覆改性薄片鋁粉顏料分散機(jī)該設(shè)備專為鋁粉顏料改性設(shè)計(jì),集成包覆與分散功能,借精準(zhǔn)剪切力使納米二氧化硅均勻包覆于薄片鋁粉表面,同時(shí)避免鋁粉破損??商嵘伭夏秃蛐耘c光澤度,適配涂料、油墨等領(lǐng)域,助力高性能金屬顏料規(guī)模化制備。

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    2025-10-14

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  • GRS2000二氧化硅牙齒高級填充物納米分散機(jī)

    二氧化硅牙齒高級填充物納米分散機(jī)該設(shè)備專為牙齒高級填充物研發(fā),以納米級研磨分散技術(shù),借強(qiáng)剪切力將二氧化硅顆粒細(xì)化并均勻分散于基體中??删珳?zhǔn)控制粒徑與分散度,提升填充物力學(xué)強(qiáng)度、生物相容性及美觀度,適配牙科修復(fù)領(lǐng)域,助力高品質(zhì)牙科材料制備。

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    2025-10-14

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  • GLC2000親水性O(shè)X50氣相二氧化硅納米混合分散機(jī)

    親水性O(shè)X50氣相二氧化硅納米混合分散機(jī),該設(shè)備專為親水性O(shè)X50氣相二氧化硅分散設(shè)計(jì),以高速定轉(zhuǎn)子產(chǎn)生強(qiáng)剪切力,高效破除顆粒團(tuán)聚體??蓪?shí)現(xiàn)納米級均勻分散,提升漿料穩(wěn)定性與固含量,強(qiáng)化其增稠、觸變性能。適配防火玻璃、膠粘劑等領(lǐng)域,助力高性能材料制備。

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    2025-10-13

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  • GRS2000高性能低溫SCR脫硝催化劑高速分散機(jī)

    高性能低溫SCR脫硝催化劑高速分散機(jī)該設(shè)備為低溫SCR脫硝催化劑制備核心設(shè)備,借高速轉(zhuǎn)子產(chǎn)生強(qiáng)剪切力,將活性組分、載體等物料細(xì)化并均勻分散,提升活性組分分散度與催化劑比表面積??蓽p少顆粒團(tuán)聚,增強(qiáng)催化劑低溫活性與抗毒性,適配多種制備工藝,助力高效脫硝催化劑工業(yè)化生產(chǎn)。

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    2025-10-13

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  • GMD2000光感珠光油墨納米研磨分散機(jī)

    光感珠光油墨納米研磨分散機(jī)該設(shè)備專為光感珠光油墨研發(fā),采用納米級研磨分散技術(shù),通過高轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)子與定子協(xié)同,將油墨中珠光顏料、樹脂等顆粒細(xì)化至納米尺度,實(shí)現(xiàn)均勻分散??删珳?zhǔn)控制研磨力度與時(shí)間,減少顏料團(tuán)聚,提升油墨光感亮度、附著性及穩(wěn)定性,廣泛應(yīng)用于gao端包裝、印刷等領(lǐng)域,助力油墨產(chǎn)品品質(zhì)升級 。

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    2025-10-13

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